如何掌控真空鍍膜的均勻性
我們先（xiān）來（lái）認識下怎麽調試鍍膜機，因為掌握調試鍍膜機是使用鍍膜機的關鍵怎麽調試鍍膜機
1、測試設備的抽真空速度，在測（cè）試過程中檢（jiǎn）查漏氣情況與各真空泵的性能；
2、測試設備（bèi）的密封性能，就是抽到極限後（hòu）保壓1小時看壓降是否達標（biāo），同時排除細小的漏孔；
3、產品試作，檢驗其他（tā）的性能，比（bǐ）如（rú）傳動、加熱、絕緣等等；
4、如果有工藝保證的話就繼（jì）續（xù）打樣並作測試。
5、所有的測試應作記錄，並有（yǒu）記錄人簽字（zì）以及有使用部門或工程部門的人確認簽（qiān）字

怎麽掌控真空鍍膜的均勻性？
由於車燈鍍膜機原理的不同分為（wéi）很多種類，僅僅因為都（dōu）需要高真空（kōng）度而擁有統一名稱。所以對於不同原理的真（zhēn）空鍍膜，影響均勻（yún）性的因素也不盡相同。並且均勻性這個概念本身也會隨著（zhe）鍍膜尺度和薄膜成（chéng）分而有著不同的意義，下麵分別說一下（xià）：

均勻性主（zhǔ）要體現在3方麵：
1、厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度（dù），在光學（xué）薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經相當（dāng）好，可以輕鬆將（jiāng）粗糙度控製在可見光波長的（de）1/10範（fàn）圍內（nèi），也就是說對於多弧離子鍍（dù）膜機的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。但是如果是指原子層尺度上（shàng）的均勻度（dù），也就是說要實現10A甚至1A的表（biǎo）麵平整，是（shì）現在真空鍍膜中主要的（de）技術含量與技術瓶頸所在（zài）。
2、化學組分上的均勻性：就（jiù）是說在薄（báo）膜中，化（huà）合物的原子組（zǔ）分會由於尺度過小而很容易的（de）產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果濺（jiàn）控濺射鍍膜機過程不科（kē）學，那麽實際表麵的組（zǔ）分並不是SiTiO3，而可能是其（qí）他的比例，鍍的膜並非是想要的膜的化（huà）學成分，這也是真空鍍膜的技術（shù）含量所在。
3、晶格有序度的均勻性：這決定了薄膜（mó）是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技（jì）術中的（de）熱點問題。 

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