GSF係列高精密電(diàn)子束蒸發光學真空鍍膜機

日期:2016-01-13 10:18:51 人氣:24338
GSF係(xì)列高精密電子束蒸發光學真(zhēn)空鍍膜機

工作(zuò)原理(lǐ)

GSF高精(jīng)密電子束蒸發光學真空鍍膜機的工作原理是將膜材放入水冷銅坩堝(guō)中,直接利用(yòng)電子束加熱,使膜材中的原子或分(fèn)子從表麵(miàn)汽(qì)化逸出後入射到基片表麵凝(níng)結成(chéng)膜。電子束蒸發比(bǐ)一般電阻加(jiā)熱蒸發熱效率(lǜ)高、束流密度大、蒸發速度快,製成的薄膜純(chún)度高。

應用範圍

光(guāng)學鍍(dù)膜設備可(kě)鍍製層數較(jiào)多的短波(bō)通、長波通、增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜(mó)、帶通膜、介質膜(mó)、高反膜、彩色反射膜(mó)等各種膜係,能夠實現0-90層膜的膜係鍍膜,也能滿足如汽車反(fǎn)光玻璃(lí)、望遠鏡、眼鏡片、光學鏡頭、冷光杯等產品(pǐn)的鍍膜要求。配置不同的蒸發源、電子槍和離子源及膜厚儀可(kě)鍍多種膜係,對金屬、氧(yǎng)化物、化合物及其他高熔點膜(mó)材皆(jiē)可蒸鍍。

產(chǎn)品特點

1)、高精密光學鍍膜機配備有石英晶體膜厚儀、光學膜厚(hòu)自動(dòng)控製係統,采用PLC與(yǔ)工業電腦配合(hé)自主研發的PY3100係統聯合實現對整個工作過(guò)程的全自動控製,可以(yǐ)實現無人值守,從而提高了工作效率和保證產品質量(liàng)的一致性和穩定性。
2)、大抽速真空係統加配深冷裝置,優秀的動態真空能力,為複雜的光學膜係製備提供了(le)必(bì)要的真空條件保(bǎo)障。
3)、蒸發分布穩定、性能可靠的E型(xíng)電子槍,優化設計的蒸發源與工件架之間的位置關係,為精密膜係的實現調工了膜料(liào)蒸發分布方麵的保障。
4)、平穩(wěn)而高速旋轉的工件架轉動係統,使工件架內外圈產品光(guāng)譜曲(qǔ)線更趨於一致。
5)、適(shì)用於光學領域行業,大規模工業生產高端要求的廠商使用。

技術參數表(biǎo)

GSF高(gāo)精密電子束蒸發光學真空鍍膜機
型號GSF-800GSF-1200GSF-1400GSF-1600GSFW-1000GSFW-1200GSFW-1600
真空(kōng)室尺寸 Φ800×1000MMΦ1200×1400MMΦ1400×1600MMΦ1600×1800MMΦ1000×1100MMΦ1200×1400MMΦ1600×1800MM
真空機組(zǔ)KT400擴散泵機組KT630擴散(sàn)泵(bèng)機組雙KT630擴散泵機組雙KT630擴散(sàn)泵機組(zǔ)KT500擴散泵機組KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵機組
鍍膜係統電子槍蒸(zhēng)發(fā)源、鍍膜輔助離子專用電源或霍爾離子源
充氣係統壓強控製儀
控製方式半自動或全自動
膜厚監控(kòng)係統石英晶體膜厚監控係統、光學膜厚(hòu)監控係統
抽氣速率(lǜ)5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min
極限真空3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa
備注以上設備參數(shù)僅做參考,具(jù)體均(jun1)按客戶實際工藝(yì)要求設計訂做
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