GSF係列高精密電(diàn)子束蒸發光學真空鍍膜機
日期:2016-01-13 10:18:51 人氣:24338
GSF高精(jīng)密電子束蒸發光學真空鍍膜機的工作原理是將膜材放入水冷銅坩堝(guō)中,直接利用(yòng)電子束加熱,使膜材中的原子或分(fèn)子從表麵(miàn)汽(qì)化逸出後入射到基片表麵凝(níng)結成(chéng)膜。電子束蒸發比(bǐ)一般電阻加(jiā)熱蒸發熱效率(lǜ)高、束流密度大、蒸發速度快,製成的薄膜純(chún)度高。
光(guāng)學鍍(dù)膜設備可(kě)鍍製層數較(jiào)多的短波(bō)通、長波通、增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜(mó)、帶通膜、介質膜(mó)、高反膜、彩色反射膜(mó)等各種膜係,能夠實現0-90層膜的膜係鍍膜,也能滿足如汽車反(fǎn)光玻璃(lí)、望遠鏡、眼鏡片、光學鏡頭、冷光杯等產品(pǐn)的鍍膜要求。配置不同的蒸發源、電子槍和離子源及膜厚儀可(kě)鍍多種膜係,對金屬、氧(yǎng)化物、化合物及其他高熔點膜(mó)材皆(jiē)可蒸鍍。
1)、高精密光學鍍膜機配備有石英晶體膜厚儀、光學膜厚(hòu)自動(dòng)控製係統,采用PLC與(yǔ)工業電腦配合(hé)自主研發的PY3100係統聯合實現對整個工作過(guò)程的全自動控製,可以(yǐ)實現無人值守,從而提高了工作效率和保證產品質量(liàng)的一致性和穩定性。
2)、大抽速真空係統加配深冷裝置,優秀的動態真空能力,為複雜的光學膜係製備提供了(le)必(bì)要的真空條件保(bǎo)障。
3)、蒸發分布穩定、性能可靠的E型(xíng)電子槍,優化設計的蒸發源與工件架之間的位置關係,為精密膜係的實現調工了膜料(liào)蒸發分布方麵的保障。
4)、平穩(wěn)而高速旋轉的工件架轉動係統,使工件架內外圈產品光(guāng)譜曲(qǔ)線更趨於一致。
5)、適(shì)用於光學領域行業,大規模工業生產高端要求的廠商使用。
GSF高(gāo)精密電子束蒸發光學真空鍍膜機 |
型號 | GSF-800 | GSF-1200 | GSF-1400 | GSF-1600 | GSFW-1000 | GSFW-1200 | GSFW-1600 |
真空(kōng)室尺寸 | Φ800×1000MM | Φ1200×1400MM | Φ1400×1600MM | Φ1600×1800MM | Φ1000×1100MM | Φ1200×1400MM | Φ1600×1800MM |
真空機組(zǔ) | KT400擴散泵機組 | KT630擴散(sàn)泵(bèng)機組 | 雙KT630擴散泵機組 | 雙KT630擴散(sàn)泵機組(zǔ) | KT500擴散泵機組 | KT630擴散泵機組 | 雙KT630擴散泵機組 |
鍍膜係統 | 電子槍蒸(zhēng)發(fā)源、鍍膜輔助離子專用電源或霍爾離子源 |
充氣係統 | 壓強控製儀 |
控製方式 | 半自動或全自動 |
膜厚監控(kòng)係統 | 石英晶體膜厚監控係統、光學膜厚(hòu)監控係統 |
抽氣速率(lǜ) | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min |
極限真空 | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa |
備注 | 以上設備參數(shù)僅做參考,具(jù)體均(jun1)按客戶實際工藝(yì)要求設計訂做 |