CJ係列磁控濺射真空鍍膜機的磁控濺射（shè）工（gōng）作原（yuán）理，所謂（wèi）“濺射”就是用荷能粒子（通常用氣體正離子）轟（hōng）擊物體，從而（ér）引起物體表麵原子從母體中逸出的現象。早在1842年Grove在實驗（yàn）室中就（jiù）發現了這種現象。磁控濺射靶采用靜止電磁場，磁場為（wéi）曲線（xiàn）形，均勻電場和對數電場則分別用於平麵靶和同軸圓柱靶。電子在電場作用下，加速飛向（xiàng）基片的過程中與氬原子發生碰撞。若電子具有（yǒu）足夠的能量（約為30ev）時，則電離出Ar+並產（chǎn）生電子，電子飛（fēi）向基片，Ar+在電場作用（yòng）下（xià），加速飛向陰極（濺射靶）並以高能量轟擊靶表麵，使靶材發生濺射（shè）。 

廣泛應用於家電（diàn）電器、鍾（zhōng）表、高爾夫球頭、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼（ké）以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表麵裝飾性鍍膜及工（gōng）模具的功能塗層，在鍍製超黑（hēi）膜、純金裝飾膜、導電膜等領域（yù）有（yǒu）優勢。

1）、膜厚可控性和重複性好。能夠可靠的鍍製預（yù）定厚度的薄膜，並且濺射鍍膜可以在較大的表（biǎo）麵上獲得厚（hòu）度均勻的膜層（céng）；
2）、薄膜與（yǔ）基片的附（fù）著力強。部分高能量的濺射原子（zǐ）產生不同程度的注入現象，在基片上形成一層濺射原（yuán）子（zǐ）與基片原子相互溶合的偽擴散層；
3）、製備特殊材料的薄膜，可（kě）以使用不同的材料同時濺射製備混合膜、化合膜，還可濺射成TiN仿金膜（mó）；
4）、膜層純度高，濺射膜層中不會混（hún）入（rù）坩鍋（guō）加熱器材料的成份。
5 )、裝備低溫（wēn）離子（zǐ）輔助源，無需加熱直接常溫冷鍍成膜，節能省電，提（tí）高（gāo）產能。