真空鍍膜機主要指一類需要在較（jiào）高真（zhēn）空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包（bāo）括真空離（lí）子蒸發（fā），磁控濺射，MBE分子束外（wài）延（yán），PLD激光濺射沉積等很多種。今天，昆山国产日韩高清一区二区三区真空技術工程有限公司為您介紹以（yǐ）下幾種鍍膜（mó）機工作原理：
    

        一、空心陰極離子鍍原理

               在本底真空為高真空的條件下，由陰極中通入氬器氣（1-10-2）在陰極與輔助（zhù）陽極之間（jiān）加上引（yǐn）弧電（diàn）壓，使氬氣發生輝光放電，在空心陰極內產生（shēng）低壓等離子體放電，陰極溫度升高（gāo）到2300-2400K時，由冷陰極放電轉為熱陰極放電（diàn），開始熱電子發射，放電轉為穩定狀態。通入反應氣（qì）體（tǐ），可以製化合膜。

        二、測控濺射工作原理

              先將真空室預抽至10-3Pa，然後通入氣體（如（rú）氬氣（qì）），氣壓為1-10 Pa時，給靶加負電壓，產生輝（huī）光放電，電子在電場正作用下加速飛向基片時，與氬原子碰撞，電離出Ar和另（lìng）一個電子；轟（hōng）擊靶材，由二次電子電（diàn）離的 越來越多，不斷轟擊靶（bǎ）材；磁場改變電子的運（yùn）動方向，以電磁場束（shù）縛和延長電子的運動軌跡，從而提高電子對工作氣體的電離幾率。

        三、多弧離子鍍工作原理

               其工作原理為冷陰極自持弧光放電，其物理基礎（chǔ）為場致發射。被鍍材料接陰極，真空室接陽極，真空室抽為（wéi）高真空時，引發電極啟動（dòng）器，接觸拉開，此（cǐ）時，陰極與陽極之間形成穩定的電弧放電，陰極表（biǎo）麵布滿飛（fēi）速遊動的陰極斑，部分離子對陰極斑的轟擊使其變成點蒸發（fā）源，以若幹個電弧蒸發源為核心的為多弧離子鍍。

        四、電阻蒸發（fā）式鍍膜機

               膜材即要鍍的材料放（fàng）於蒸發舟中，置於真空（kōng）室（shì）中（zhōng），抽到一定真空時，通過電阻加熱膜材，使其蒸發，當蒸發分（fèn）子的（de）平均自由程大於蒸發源至（zhì）基片的線性尺寸時，原子（zǐ）和分子從蒸發源（yuán）中逸出後，到達（dá）基片形成膜。為（wéi）了使膜厚（hòu）均勻，可以利用電機帶動基片旋轉，並用膜厚儀控製膜厚，製（zhì）出優質膜。

        五、E型槍工作原理

               陰極燈絲加熱後發射具有（yǒu）0.3    EV初動能的熱電子，這些熱電子在燈絲陰極與陽極之間的（de）電場作（zuò）用（yòng）下加（jiā）速並會聚（jù）成（chéng）束狀。在電磁線圈的磁場中，電子（zǐ）束沿E x B的方向偏轉，通過陰極時，電子（zǐ）的能量提高到10KV，通過陽極（jí）電子偏轉270度角而入射坩堝內的膜材表麵上，轟擊膜材使其蒸發。

        六、PCVD鍍膜工作原理

               將被鍍件放（fàng）在（zài）低壓輝光放電（diàn）的陰極上，通（tōng）入適當氣體，在一定溫度（dù）下（xià），利用化學（xué）反應和離子轟擊相結合的過（guò）程，在（zài）工件表（biǎo）麵（miàn）獲得塗層。

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