磁控濺射真空鍍膜機需要鍍膜的被稱為基片（piàn），鍍（dù）的材料被稱為靶材。 基片與（yǔ）靶材同（tóng）在真空腔中。蒸發（fā）鍍膜一般是加熱（rè）靶（bǎ）材使表麵組分以原子團（tuán）或離子形式被蒸發出來。並且沉降在基片表麵，通過（guò）成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長（zhǎng））形成薄膜。 對於濺射類鍍膜，可以簡單（dān）理解為利用（yòng）電子或高能激光轟（hōng）擊靶材，並使表（biǎo）麵組分以原子團或離子形式被濺射出來，並且最終沉積在（zài）基片表麵，經曆成膜過（guò）程，最（zuì）終（zhōng）形成薄膜。

使用步驟（zhòu）：
電控櫃操作
1、開水泵、氣源。
2、開（kāi）總（zǒng）電源。
3、開維持（chí）泵、真空計電源（yuán），真空計（jì）檔位置V1位置，等待其值小於10後，再進入下一步操作。約需5分鍾。
4、開機械泵、預抽（chōu），開渦輪分子泵電源、並啟動（dòng），真空計開關（guān）換到（dào）V2位置，抽到小於2為止，約需20分鍾。
5、觀察渦輪分子泵讀數到（dào）達250以後，關預抽，開前級泵和高真空閥繼續抽真空（kōng），抽真空到達一定程度後才能開右邊的高真空表頭，觀（guān）察真（zhēn）空度。真空到達2×10-3以後才能打開電子（zǐ）槍電源。

DEF-6B操作：
1. 總（zǒng）電源。
2. 同時開電子槍控製Ⅰ和電子槍控製Ⅱ電源：按電子槍控製Ⅰ電源（yuán）、延時開關，延時、電源及保護燈亮，三分鍾後延時及保護燈滅，若後門未關好或（huò）水流（liú）繼電器有故障，保護燈會常亮。
3. 開高壓，高壓會達到10KV以上，調節（jiē）束流可到200mA左右，簾柵為（wéi）20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏（piān）轉電流在1~1.7之間擺動。

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