磁控濺射是一種 (PVD) 工藝，是製造半導體、磁盤驅動器、CD 和光學器件的主要薄膜沉積方法。以下是磁控濺射（shè）中常見的問題。小編（biān）列出了可能的原因和相關解決方案供您參考。

● 問題一：薄膜灰黑或暗黑
● 問題二：漆膜表麵暗淡無光澤（zé）
● 問（wèn）題（tí）三：薄膜顏色不均勻
● 問題四：起皺、開裂
● 問題五：薄膜表麵有水印、指紋和灰粒

 薄膜灰黑或暗黑 
丨真空度小於0.67Pa；真空度應提高到0.13-0.4Pa。
丨氬氣純度小於99.9%；氬氣應（yīng）更換為純度（dù）為 99.99%。
丨充氣係統漏氣；應檢查（chá）充氣係統以消除漏氣。
丨薄（báo）膜未充分（fèn）固化；薄膜的（de）固化時（shí）間應適當（dāng）延長。
丨鍍件排出（chū）的氣體量過大；應（yīng）進行幹燥和密封。

 漆（qī）膜表麵無光澤 
丨薄膜固化不良或變質；應延長薄膜固化時間（jiān）或更換底漆（qī）。
丨磁控濺射時間過長；施工時間應適當縮短。
丨（shù）磁控濺射成膜速（sù）度太快；磁控濺射電（diàn）流或電壓（yā）應適當降低。

 薄膜顏色不均勻 
丨底漆噴塗不均；底漆的使用方法有待改進。
丨膜層太薄；應適當提（tí）高磁控濺射速率或延長磁控濺射（shè）時間。
丨（shù）夾具（jù）設計不合理；應改進夾具設計。
丨鍍件幾何形（xíng）狀過於複（fù）雜；鍍件（jiàn）的轉速應（yīng）適當提高。

 起皺、開裂 
丨底漆噴（pēn）得（dé）太厚；應控製噴霧的（de）厚度。
丨塗層粘度過高；應適當降低塗料的（de）粘度。
丨（shù）蒸發速度過快；蒸發速度（dù）應（yīng）適當（dāng）減慢。
丨膜層太（tài）厚；濺射時（shí）間（jiān）應適當縮短。
丨電鍍溫度過高；鍍件的加熱時（shí）間應適當縮（suō）短。

 薄膜表麵有水（shuǐ）印（yìn）、指紋和灰粒 
丨鍍件清（qīng）洗（xǐ）後未充分幹燥；應加（jiā）強鍍（dù）前處理（lǐ）。
丨在鍍（dù）件表麵潑水或唾液；加強文明生產，操作人（rén）員（yuán）戴口罩。
丨塗底漆後，手接觸鍍件（jiàn），表麵留下（xià）指紋；嚴禁用手（shǒu）觸摸（mō）鍍件表麵。
丨有顆粒物（wù），應過濾或除塵。
丨靜電除塵失敗（bài）或噴（pēn）塗（tú）固化環境有顆粒粉塵；應更換除塵器並清（qīng）潔工（gōng）作環境。


除（chú）以上常用材料外，金屬靶（bǎ）材還有鎳、鋁、鉭、鉿（hā）、錳、銅、鋅、銦、錫、等，均有在鍍膜中使用（yòng）。多質靶（bǎ）材如（rú）鈦鋁、鉻鋁、鈦鋯（gào）、銅錳、鎳鉻、矽鋁、釩錸、鎢鉬等。

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