真空鍍膜技術是真（zhēn）空應用技術的一個重要分支，它已廣泛地應用於光學、電子學、能源開發（fā），理化儀器、建築機械、包裝、民（mín）用製品、表麵科學以（yǐ）及科學研究等領域中。真空鍍膜所采（cǎi）用的方法（fǎ）主要有蒸發鍍、濺射鍍、離子鍍、束流（liú）沉積鍍以及分子（zǐ）束外延等。此外還有化學（xué）氣相沉積法。如（rú）果從真空鍍膜的目的是為了改變物質表麵的（de）物理、化學性（xìng）能的話，這一技術又是（shì）真空表麵處理技術（shù）中的重要組成部（bù）分，其分類如表（biǎo） 6 所示。現就其（qí）幾個主要應用方麵做一簡單介紹。

        首先在光學方麵，一塊光學玻璃或石英表麵上鍍一層或幾層不同物質（zhì）的薄膜後（hòu），即可成為（wéi）高反射（shè）或無反射（即增透膜）或（huò）者（zhě）作任何預（yù）期比例的反射或透射材料，也可以作成對某種波長的吸收，而對另一種波長的透射的（de）濾色片。高反射膜從大口徑的（de）天文望遠鏡和各種激光器（qì）開始、一直到新型建築物的大窗鍍膜茉莉（lì），都很需要。增透膜則大量用於照相和（hé）各種激光器開（kāi）始、一直（zhí）到新（xīn）型建築物的大窗（chuāng）鍍膜玻璃，都很需要。增透膜則大量用於照相機和電視攝象機的鏡頭上。

        在電子學方麵真空鍍膜更占有極為重要的地位。各種規模的繼承電路。包括存貯器、運算器、告訴邏（luó）輯元件等都要采用導電膜、絕緣膜和保護膜。作為製備電路的掩膜則用到鉻膜。磁（cí）帶、磁盤、半導體激光器，約瑟夫遜器件、電荷耦合（hé）器件（ CCD ）也都甬道各（gè）種薄膜。

        在顯示器件方麵，錄象磁頭、高密度錄象帶以及平麵顯示裝置的（de）透明導（dǎo）電膜、攝像管（guǎn）光導膜、顯示管熒光屏的鋁襯等也都是采（cǎi）用真空鍍膜法製備。在元件方麵，在真空中蒸發鎳鉻，鉻或金屬陶瓷可以製造電阻，在塑料上蒸發鋁（lǚ）、一氧化矽、二氧化鈦等可以製造電容器，蒸發硒可以得（dé）到靜電複印機用的硒（xī）鼓、蒸發鈦酸（suān）鋇（bèi）可以製造磁致伸縮的起聲元（yuán）件（jiàn）等等。真空蒸（zhēng）發還可以用（yòng）於製（zhì）造超（chāo）導（dǎo）膜（mó）和慣性約束巨變反應用的微珠鍍層。此外還可以對珠寶、鍾表外殼表麵、紡織品（pǐn）金屬花（huā）紋、金絲銀絲線等（děng）蒸鍍（dù）裝飾用薄膜（mó），以及采用濺射鍍或離子鍍對（duì）刀具（jù）、模具等製造超硬膜。近兩年內所興起的多弧離（lí）子（zǐ）鍍製備鈦金製品，如不鏽鋼薄板、鏡麵板、包柱、扶手、高檔床托架、樓梯欄杆等目前（qián）正在盛行。