微信掃一掃 關注浦（pǔ）元最新動態（tài）！ 物理氣（qì）相沉積介（jiè）紹之（zhī）真空（kōng）卷（juàn）繞鍍膜技術：
真空卷繞鍍膜(卷對（duì）卷)是在真空下應用不同方（fāng）法在柔性基（jī）體上實現連續鍍膜的（de）一種（zhǒng）技術。它涵蓋真空獲得、機電控製、高精傳動和表（biǎo）麵分析等多（duō）方麵內容。其重點是，在保證鍍膜（mó）質量前提下（xià）提高卷繞速率、控製鍍膜穩定性及實施在線監控（kòng）。卷對卷（juàn）技術成本低、易操作、與柔性（xìng）基底相（xiàng）容、生產（chǎn）率高及可連續鍍多層膜（mó）等（děng）優點。第一台真空蒸發卷繞鍍膜機（jī）1935年製（zhì）成，現可鍍幅寬由500至2500mm。卷對卷技術（shù）應用由包裝和裝飾用膜，近年逐漸擴大至（zhì）激光防偽膜（mó）、導（dǎo）電等功能薄膜方麵，是未來柔性電（diàn）子（zǐ）等行業（yè）的主（zhǔ）流技術之一。
真空卷繞鍍膜係統按結（jié）構（gòu）可分為單室、雙（shuāng）室和多室真空卷繞係統，後兩者可（kě）解決開卷放氣問題並分別（bié）控製卷繞和鍍膜（mó）室各自（zì）真空度。卷繞（rào）張力控製分錐度、間（jiān）接和直接控製模型，錐度控製模型可解決薄膜褶（zhě）皺和徑向力分布不均的問題；間接張力控製無需（xū）傳感器，可用內置張力控製（zhì）模塊的矢量變頻（pín）器代替；直接張力控製通過張力傳感器精確測量張力值，但需慣性矩和角速度等多（duō）種參數。真（zhēn）空卷繞鍍膜（mó）主要（yào）有真空蒸發、磁控濺射等方式（shì），可用於製備新型高折射率薄膜、石墨烯等納米材料（liào）和柔性太陽能電池等半導體器件。針對真空卷繞鍍膜技術（shù）研究現狀及向產業化過渡存在的問題，最後作了簡要分析與展望。
真空卷對卷設備由抽真空、卷繞、鍍膜（mó）和電氣控製等（děng）係統組成。真空卷繞鍍膜設備根據真空室有無擋板，可分單室、雙室和多室結構。單室（shì）的收放卷輥和鍍膜輥在同一室中，結構簡單但開卷時放氣會汙染真空環境。雙（shuāng）室結構將係（xì）統用擋板（bǎn）隔成（chéng）卷繞和鍍膜室，卷輥與擋板間隙約1.5mm，避免了類似開卷放氣問題。多室常用於製備複合薄膜，在雙室基礎上將（jiāng）相鄰鍍膜區用擋板隔開避免幹擾。如Krebs等將Skultuna FlexiblesAB的開普頓擋板固定於兩磁控濺射靶間，板兩側塗覆50μm的銅層。分隔擋板與真空室（shì）壁狹縫越小越好。據（jù）鍍膜時輥筒作用分為單主輥和多主輥（gǔn）卷繞鍍（dù）膜機。據電機個數，則可分為兩（liǎng）電（diàn）機、三電（diàn）機（jī）和四電機驅動係統。