無論監控儀精度怎樣，它也隻能控製（zhì）真空室裏單點位置的膜厚，一般來講是工件架的中間位（wèi）置。如果真空電鍍設備此位置的膜厚不是絕對均勻的，那麽遠離中心位置的基片就無法得到均勻的厚度。雖然屏蔽罩（zhào）能消（xiāo）除表現為（wéi）長期的不均勻性，但有些膜厚度（dù）的變化是由蒸發源的不穩（wěn）定或膜材（cái）的不同表現而引起的（de），所以幾乎是不可能消除的，但對真空室的結構（gòu）和蒸發源的恰當選擇可以（yǐ）使（shǐ）這些影響最小化（huà）。
　　在過去幾年中，越來越多的用戶要求鍍膜係統製造廠（chǎng）家提供高性（xìng）能的（de）小規格（gé）、簡便型光學鍍膜係統，同時，用戶對性能的要求不僅沒有降低，反（fǎn）而有所（suǒ）提高，特別是在（zài）薄膜密度和保證（zhèng）吸（xī）水後光譜變化最小（xiǎo）化等方麵。
　　現在，係統的（de）平（píng）均尺寸規（guī）格（gé）已經在降低，而應（yīng）用小規格（gé）設備進行光（guāng）學鍍膜的生（shēng）產也（yě）已經轉變成（chéng）為純技術問題。因此，選用現代化光學鍍（dù）膜係統的關鍵取決於對以（yǐ）下因素（sù）的認真（zhēn）考慮：對鍍膜產品的預期（qī）性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保證高（gāo）度一致性工藝所必需的所有技術（shù）因素。

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