一. 鍍層附（fù）著性能好 

普通真空（kōng）鍍膜時（shí），蒸發料粒子大約隻以一個電子伏特的能量向工件表麵（miàn）蒸鍍，在工件（jiàn）表麵與鍍層之間，形成的（de）界麵擴散深度通常僅為幾百個埃（10000埃（āi）=1微米=0.0001厘米）。也就是說比一（yī）根頭發（fā）絲的百分之一（yī）還要小。兩者間可以說幾乎（hū）沒有連接的過渡層，好似截然分開。而離子鍍時，蒸發料（liào）粒子電離後具有三千到五千（qiān）電子伏（fú）特的動能。如果說普通真空鍍膜的粒（lì）子（zǐ）相當於一（yī）個氣喘籲（yù）籲的長跑運（yùn）動員，那麽離子鍍（dù）的粒子（zǐ）則好似乘坐了高速火（huǒ）箭的乘客，當其（qí）高速（sù）轟擊工件時，不但沉積速度快，而且（qiě）能（néng）夠穿透工件表麵，形成一種注入基體很深（shēn）的擴散層，離子鍍的界麵擴散深度可達（dá）四至五微米，也就是說比普通真空鍍膜（mó）的擴散深（shēn）度要深幾十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特別牢。對離子鍍後的試件（jiàn）作拉伸試驗表明，一直拉到（dào）快要斷裂時，鍍（dù）層仍隨基體金屬一起塑（sù）性（xìng）延伸，無起皮或剝落現象發生。

二.繞鍍能力強

離（lí）子鍍時，蒸發料粒子是以帶電離（lí）子的形式在電場中沿著電力線方向運動，因而凡是有電場存在的（de）部（bù）位，均（jun1）能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜隻能在直射方向上獲得鍍層優越得多。因此，這種方法非常（cháng）適合於鍍（dù）複零件上的內孔、凹槽和窄縫。用普通真（zhēn）空鍍（dù）膜（mó）隻能鍍直射表麵（miàn），蒸發料粒子尤（yóu）如攀登（dēng）雲梯一樣，隻順（shùn）梯而上；離子鍍則能均勻地繞鍍到（dào）零件的背麵和內孔中（zhōng），帶電離子（zǐ）則好比坐上（shàng）了直升飛機，能夠沿著規定的航（háng）線飛抵其活（huó）動半徑範圍內的任何地方。

三. 鍍層（céng）質量好

離子鍍的鍍層組織致密、無（wú）針孔、無氣泡、厚度均勻。甚至棱麵和（hé）凹（āo）槽都可均勻鍍複（fù），不致形成金屬瘤。像螺紋一類的零件也能（néng）鍍複，由於這種工藝方法還能修補工件表麵的微小裂紋和麻（má）點等缺陷，故可有效地（dì）改善被鍍零件的表麵質量和物理機械性能。疲勞試（shì）驗表明，如果處理得當，工件疲勞壽命可比鍍前高百分之二、三十.