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磁控濺射真空鍍膜機的常見故(gù)障排除

作者: 來源: 日期:2020-03-09 10:17:04 人氣:62210

    1、鍍膜層灰暗或者發黑 
    ①、磁控濺射鍍膜設備的真空度太低,提升真空度至0.4pa既(jì)可。
    ②、濺射時(shí)間太(tài)長,縮(suō)短濺(jiàn)射時間既可。
    ③、磁控濺射鍍膜設備的充氣係統出現漏氣,檢查充氣係統,發現損壞則給予更換。

    2、鍍(dù)膜層的色澤不均勻 
    ①、膜層太薄,提(tí)高濺射的速度或(huò)者延長(zhǎng)設備濺射的時間。
    ②、產品的(de)形狀太過複(fù)雜,可以適當(dāng)提高產品在磁控濺射(shè)鍍膜設備(bèi)中的旋轉速度。

    3、鍍膜層龜(guī)裂 
    ①、塗料的粘度太高,降低塗料的粘度即可。
    ②、鍍膜層太厚,適當剪短(duǎn)濺射的時間。
    ③、磁控濺射鍍膜設備(bèi)的溫度太高,適當縮短產品的(de)加熱時間。

    4、鍍膜層表麵不潔淨 
    ①、產品在鍍膜之前清洗完後未進行完全幹燥,加強(qiáng)鍍膜前(qián)產品處理
    ②、操作(zuò)者手接觸過產品,這種情況應規定操(cāo)作者嚴禁身體觸屏待鍍膜產品。

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