真空鍍膜設備多（duō）弧離子鍍膜上的創新方法，所謂多弧離子鍍膜就是置待鍍材料和被（bèi）鍍基板於室內，

真空鍍膜機多弧離子鍍膜采用一定方法加熱待鍍材（cái）料，使之蒸發或升華（huá），並飛行濺射到被鍍基板（bǎn）表麵（miàn）凝聚成膜的工藝。

多弧離子鍍膜的方法，在條件下成膜有很（hěn）多優點，可減少蒸（zhēng）發（fā）材料的原子（zǐ）、分子在飛向基板（bǎn）過（guò）程中於分子的碰撞，

減少氣（qì）體中的活性分子和蒸發源材料間（jiān）的化學反應（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量，從而提供（gòng）膜層（céng）的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。

真空鍍膜設備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統表麵（miàn）處理的不足，且各項技術指標（biāo）都優於傳（chuán）統工藝，在五金、機械、化工、模具、電子、儀器等領（lǐng）域有廣泛應用。

催化液和傳統處理工藝（yì）相比，在技術上有哪些創新？

1、多弧離子（zǐ）鍍膜不用電、降低了成本、成本僅為多弧離子鍍膜鎳（niè）的二分之一，真空鍍膜機（jī）多弧離子鍍膜鉻的三（sān）分之一，不鏽鋼的四分之一，可反複利用（yòng），大大降低（dī）了（le）成本。