磁控濺射鍍膜（mó）技術介紹
作者： 來源（yuán）： 日期：2020-06-08 9:18:10 人氣：16132
磁控濺射鍍膜設備是一種具有結構簡單、電器控製穩（wěn）定（dìng）性好等優點的真空鍍膜機，其工藝技術的選擇對薄膜（mó）的性（xìng）能具（jù）有重要影響。
磁控濺射鍍膜技術在陶瓷表麵裝飾中（zhōng）采用的工藝流程如下：
陶瓷片（piàn）→超聲清（qīng）洗→裝夾→抽本底真空→plasma清洗→加熱（rè）→通氬氣→預濺射→抽本底真空→濺射(或多次濺射)→鍍AF膜→破真（zhēn）空卸片→表麵檢驗（yàn）→性能測試→包裝（zhuāng）、入庫。
以上工藝技術是以磁控濺射鍍膜（mó）設備為基礎，選用合適（shì）的靶材和濺射工藝，製出超硬的耐磨鍍層（céng），可以實現材料的高硬度（dù）、高耐（nài）磨、高耐劃傷（shāng）特性；
同時，利用NCVM光學膜結（jié）構設計，設計出各（gè）層不同折射率材料，可以（yǐ）調配出任意顏色，使得（dé）陶瓷（cí）不僅硬度高、強度高，具備外（wài）觀件時尚、美（měi）觀的特點（diǎn），而且不（bú）會屏蔽電磁信號。
磁控濺射鍍（dù）膜設備配（pèi）合（hé）NCVM工藝，能夠實現對於陶瓷電子消費品的表麵裝飾處理，在保證陶瓷強（qiáng）度和硬度的同時，也能（néng）夠提升其美觀性和藝（yì）術性，更好地滿（mǎn）足消費者的個性（xìng）化需求。
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