通俗的定義為在正常狀（zhuàng）況下，其應用功能不會失效。

想要達到這個目的（de），一般而言這層薄（báo）膜必須（xū）具有堅牢的附著力、很低的內應力（lì）、針（zhēn）孔密度很少、夠強的機械（xiè）性能、均勻的膜厚、以及（jí）足夠的抗化（huà）學侵蝕性。

薄膜的特性主要受到沉積過程（chéng）、成膜條件（jiàn）、接口層（céng）的（de）形成和基材的影響，隨後的熱處理亦扮演重要角色。 

沉積（jī）的薄膜有內應力的存在，其來源為何? 

薄膜（mó）和基材之間的晶格失配 

薄膜和基材之間的熱膨脹係數差異 

晶界之間的互擠