對於真空鍍膜機設備（bèi）的分類，到底了解多少？
真空鍍膜機主要指一類需要（yào）在較高（gāo）真空度下進行的鍍膜設備，包括（kuò）真空離（lí）子蒸發鍍膜機、磁控濺鍍膜機射、
MBE分子束外延（yán）鍍膜機和PLD激（jī）光濺射沉積鍍膜機等很多種。

主要是分成蒸發和濺射兩種。
在真空鍍膜設備中需要鍍膜的被成為基片，鍍的（de）材料（liào）被成為靶材。
基片與靶（bǎ）材同在真空腔（qiāng）中（zhōng）。
蒸（zhēng）發鍍膜一般是加熱靶材使表麵組分（fèn）以原子團或離子形式被蒸發出來，並且沉降在（zài）基片表麵（miàn），通過成膜過程形成薄膜。

真空鍍膜（mó）機對於濺射類鍍膜，可以簡（jiǎn）單理（lǐ）解（jiě）為利用電子或高能激光轟擊靶（bǎ）材（cái），並使表麵（miàn）組分以原子團或離子形式被濺射出來，
並且最終沉（chén）積在（zài）基片表麵，經曆成膜過程，最終形成薄膜。爐體（tǐ）可（kě）選擇由（yóu）不鏽鋼、碳鋼或它們的組合（hé）製成的雙層水（shuǐ）冷結構（gòu）。

根據工藝（yì）要求選擇不同規格及類型鍍膜設備，其類型有電阻蒸發真空鍍膜設備、電子（zǐ）束蒸（zhēng）發真空鍍膜（mó）設（shè）備、
磁控濺射真空鍍膜設備、離子鍍真空鍍膜設備、磁控反（fǎn）應濺射真空鍍膜（mó）設備、空心陰極離子鍍（dù）和多弧離子鍍等。
夾具運轉形式有自轉、公轉及公轉+自轉（zhuǎn）方式，用戶（hù）可根據片尺寸及形狀提（tí）出相應要求，轉動的（de）速度範圍（wéi）及轉動（dòng）精（jīng）度：普通（tōng）可調（diào）及變頻調速等。