真空蒸鍍、濺鍍（dù）、離（lí）子鍍 

真空鍍主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種（zhǒng）類型，它們都是采用（yòng）在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在塑件表麵沉積各種金屬和非金屬（shǔ）薄膜，通過這樣（yàng）的（de）方式可以得到非常薄的表麵鍍層，同時具有速度快附（fù）著力好的突出（chū）優點，但是（shì）價格也較高，可以進行操作的金屬類型較少，一般用來作較高檔產品的功能性鍍層。

真空蒸鍍法是在高真空下為金屬加熱，使其熔融、蒸發，冷卻後（hòu）在樣品表麵形成金屬薄膜的方法,鍍層厚度為（wéi）0.8-1.2um。將成形品表麵的微小凹凸部（bù）分填平，以獲得如鏡麵一（yī）樣的表麵，無任是為了得到反射鏡作用而實施真空蒸鍍，還是對密接（jiē）性較低的（de）奪鋼進行真空蒸鍍時（shí），都必須進行底麵塗（tú）布處理。

濺鍍通常指的是磁控濺鍍，屬於高速低溫（wēn）濺鍍法。該工（gōng）藝要求真空度在1×10-3Torr左右，即1.3×10-3Pa的真空（kōng）狀態充入惰性氣體氬氣（Ar），並在塑膠基材（陽極）和金屬靶材（陰極）之間加上高壓直流電，由於輝光放電（glow discharge）產生的電子激（jī）發惰（duò）性氣體，產生等離子體（tǐ），等離（lí）子體將金屬靶材（cái）的原子轟出，沉積在塑膠基材上（shàng）。一般金屬鍍（dù）膜大都（dōu）采用（yòng）直流濺鍍,而不導電的陶磁材（cái）料則使用RF交流濺鍍。

離子（zǐ）鍍是在真空條件下，利用氣體放電（diàn）使氣體或被蒸發物質部分電離（lí），並在氣體離子或被蒸發物質離子的轟擊下，將蒸發物質或其反應物沉積在（zài）基片上（shàng）的方法。其中包括磁控濺射離子鍍、反應離（lí）子鍍、空心（xīn）陰極放電離子鍍（空心陰極蒸鍍法）、多弧離子鍍（陰極電弧離子鍍）等。