濺射靶材： 濺射靶材按形狀分類：矩（jǔ）形平麵（miàn）靶材、圓形平麵靶材、圓柱靶材

濺（jiàn）射靶材按成（chéng）分分類：單質金屬靶材、合金靶材、陶瓷靶材

平麵靶材利用率比較低，隻有30%左右，沿（yán）著環形跑道刻蝕。 

靶材冷卻與靶背板 

1. 靶功率密度與靶材冷卻：靶功率越大，濺射速度越大；靶允許的功率與靶材的（de）性質（zhì）及冷卻（què）有關（guān）；靶材采用直接水冷（lěng），允許的靶功率（lǜ）高。

2. 靶背板 target backplane

使（shǐ）用場（chǎng）合：ITO,SiO2,陶瓷等脆性靶材及燒結（jié）靶材Sn(錫）, In（銦）等（děng）軟金屬靶；靶材太薄、靶材太貴

材質要求：

導熱性（xìng）好---常用無氧銅，無氧銅的導熱性比紫銅好；強（qiáng）度足夠---太薄，容易變形，不易真空密封。 

結構： 

空心或者實心結構---磁鋼（gāng）不泡或泡在冷水（shuǐ）中；厚度適（shì）當---太厚，消耗部分磁強；太薄（báo），容易變形。